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硅片超聲波清洗機既不會損耗元件又清洗得干凈
本文為大家介紹“硅片超聲波清洗機既不會損耗元件又清洗得干凈”，超聲波清洗在硅片行業(yè)的應用也是很廣泛的，半導體材料的制作過程中，每一個過程包括清潔，清洗直接影響到下一道工序，甚至會影響設備的成品率和可靠性。晶片生產的每一個過程的潛在的污染可能會導致產生缺陷和設備故障，人工清洗效率低，還容易造成破裂。硅片清洗機的出現(xiàn)很好的解決了這個問題。小美超聲專業(yè)提供高品質實驗室、小型、全自動、單槽、多槽清洗機，下面小編為大家介紹。
這個我們可以根據(jù)硅片的污染狀況出發(fā)，硅片的污染可以從我們平時的生活應用出發(fā)，最典型的例子就是我們的電腦應用，比如主機箱在長時間不清晰之后，就很容易沾上灰塵、頭發(fā)等之類物體，這個原因主要也是因為硅片的屬性決定，因為硅片上含有的鐵離子，極易吸附各種雜質，如顆粒、有機雜質、無機雜質等，造成硅片變花、發(fā)黑等現(xiàn)象，而這里面也涉及到一個高凈化的愿意呢，清洗難度也會比較高。
超聲波清洗機的清洗作用剛好符合中央的清洗要求，在清洗過程中，超聲波清洗機會產生一個空化作用，進行一個氣泡震蕩式清洗，在經過多次的氣泡破裂，使水一次又一次的進行一個硅片洗刷，在很短的時間里，無數(shù)次的清洗了硅片，是硅片的清洗效果達到了最大層。
硅片超聲波清洗機工藝流程：
1、切割片超聲波清洗機
①超聲波拋動粗洗→②超聲波拋動清洗→③超聲波拋動漂洗→④超聲波拋動漂洗→⑤純水噴淋拋動漂洗→⑥超聲波拋動漂洗
2、研磨片超聲波清洗機
①熱純水超聲拋動清洗→②熱堿水超聲拋動清洗→③熱純水超聲拋動清洗→④熱純水超聲拋動清洗→⑤純水噴淋拋動漂洗→⑥熱酸超聲拋動清洗→⑦熱純水超聲拋動漂洗→⑧熱純水超聲拋動漂洗
3、外延片超聲波清洗機
①純水超聲拋動清洗→②清洗劑超聲拋動清洗→③純水噴淋漂洗→④清洗劑超聲拋動清洗→⑤清洗劑超聲拋動清洗→⑥純水噴淋漂洗→⑦純水超聲拋動漂洗→⑧純水超聲拋動漂洗→⑨純水超聲拋動漂洗
以上就是小美清洗機為大家分享的關于“硅片超聲波清洗機的優(yōu)勢”，希望對大家的使用能有更好的幫助。注意好清洗機安全操作細節(jié)中央既不會損耗元件，也不會造成清洗不干凈。如果過你在清洗機選購和使用方面有任何問題，可以直接聯(lián)系小美超聲。
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